SENTECH开发了一种两腔设备刻蚀金属、电介质、和硅。系统带cassette，实现自动批处理，和手动单片预真空室刻蚀。 六边形传输腔允许在洁净室内只放置Loaddlock 和 cassette。氯和氟刻蚀工艺，通过两个刻蚀腔体分开。衬底电极温度可以在 -30°C --- 200°C之间选择。系统被设计用于加工8 inch的样片，尤其适合研发领域和小批量生产的应用。
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